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黃行州(先生)
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黃行州 (先生)
一、真空管式爐用途
真空管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產之用。主要用于粉 體、電子、陶瓷等其它產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）工藝等
二、真空管式爐結構
1.爐體采用雙層爐殼結構，雙層爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。
2.爐管采用99高純剛玉管、兩端采用sus304高真空法蘭密封。
3.爐膛材料采用優(yōu)質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50％，加熱爐膛為一體化，方便取放實驗物料、更換爐管。加熱元件采用硅碳棒。
4.電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調節(jié)技術，具有pid調節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為±1℃，溫場穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設置。
5.真空度可以達到10pa
三、真空管式爐參數(shù)型號爐膛尺寸(mm)
(dxwxh)功率
(kw)最高溫度
(℃)額度溫度
（℃）加熱元件電壓
（v）jw60/16φ60×1000716001500硅鉬棒380jw80/16φ80×1000916001500硅鉬棒380jwf100/16φ100×1000916001500硅鉬棒380注：可根據(jù)用戶要求另行設計制造，更多規(guī)格及參數(shù)和詳細技術方案請來電咨詢！
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